特許

J-GLOBAL ID：200903027501197204

抵抗器におけるレーザートリミング方法

発明者： 寺前 敏宏
出願人/特許権者： ローム株式会社
代理人 (1件)： 石井 暁夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-328687
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171911
出願日： 1995年12月18日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 抵抗器における抵抗膜に、その抵抗値を調節するためのトリミング溝をレーザー光線の照射にて刻設する場合に、抵抗値が変化すること、及び、抵抗膜の耐湿性が低下すること、並びにトリミングの際に発生する飛散物が付着することを防止する。【手段】 レーザー光線を照射する部分の付近に気体の冷却媒体を吹き付け、この状態で、前記レーザー光線を照射する。

請求項（抜粋）：

抵抗器における抵抗膜、及びこの抵抗膜の表面に形成した保護膜に、レーザー光線の照射によってトリミング溝を刻設すると言うレーザートリミング方法において、前記抵抗膜及び保護膜のうち少なくともレーザー光線を照射する部分の付近に気体の冷却媒体を吹き付け、この状態で、前記レーザー光線を照射することを特徴とする抵抗器におけるレーザートリミング方法。