処理装置のクリーニング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-256507
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094489
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】安全に且つ円滑に高いスループットを維持したままクリーニングを行うことができる処理装置のクリーニング方法を提供する。【構成】被処理体Wを処理するための複数の真空処理室24と、被処理体を搬入・搬出するための移載室4、8とを有し、各室間を開閉可能に連結した処理装置のクリーニング方法において、まず、上記各室をN2 ガス等の不活性ガスで同一の圧力に設定し、次にこれら各室を連通させる。そして、ClF系ガスを含むクリーニングガスを全体に流して各室をクリーニング処理する。これにより、効率的なクリーニングを可能とする。

請求項（抜粋）：

被処理体を処理するための複数の処理室と、この処理室に対して前記被処理体を搬入・搬出するための少なくともロボットアームが設けられた移載室とからなる処理装置のクリーニングに際し、前記各処理室、前記移載室をそれぞれ不活性ガス雰囲気で同一圧力に設定する工程と、次いで、上記各室を連通し、ClF系ガスを含むクリーニングガスで前記各室内をクリーニングする工程とにより構成したことを特徴とする処理装置のクリーニング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (5件)

真空処理装置およびその運転方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-234408 出願人：株式会社日立製作所
特公平3-048268
特開平2-190472

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