特許
J-GLOBAL ID:200903027506348219

孔あき再帰反射性フィルム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉本 修司 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-539372
公開番号(公開出願番号):特表2002-508533
出願日: 1998年12月15日
公開日(公表日): 2002年03月19日
要約:
【要約】 シースルーの再帰反射性構造体であって、光透過性のポリマーフィルム、このフィルムに取り付けられた再帰反射性素子アレイ、および再帰反射性素子アレイ内に再帰反射性構造体を貫通する開口のアレイを有する。一実施形態において、再帰反射性構造体は光透過性のプリズム素子上に形成された金属被膜反射層を有し、布地のような支持層がその金属被膜反射層に取り付けられている。本製造方法は、光透過性のポリマーフィルムを設ける工程を有する。再帰反射性素子アレイはポリマーフィルムに取り付けられる。再帰反射性素子および光透過性のポリマーフィルムは、再帰反射性構造体を貫通して孔があけられて開口アレイを形成する。これにより、再帰反射性構造体を形成する。開口は十分な寸法と間隔を有しており、それによってシースルー性能を提供する。一実施形態において、金属被膜再帰反射層を再帰反射性素子に施すこともでき、布地などの支持層をその金属被膜反射層に取り付ける。
請求項(抜粋):
a)光透過性のポリマーフィルムを設ける工程と、 b)前記ポリマーフィルムに再帰反射性キューブコーナー素子のアレイを取り付ける工程と、 c)前記再帰反射性素子のアレイおよび前記光透過性のポリマーフィルムに孔をあけ、再帰反射性構造体を貫通する開口のアレイを形成する工程とを備えた再帰反射性構造体の製造方法。
Fターム (4件):
2H042EA04 ,  2H042EA11 ,  2H042EA21 ,  2H042EA22
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開昭51-095794
  • 特開平1-273003
  • 光反射画像の形成方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-302692   出願人:株式会社巴川製紙所
審査官引用 (5件)
  • 特開昭51-095794
  • 特開昭51-095794
  • 特開平1-273003
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