円周表面の熱処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-095615
公開番号（公開出願番号）：特開平5-287362
出願日： 1992年04月15日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】【目的】レーザ光を熱源とした円周表面の熱処理において、円周上の品質が均一となるような熱処理方法を提供することにある。【構成】熱源となるレーザ光2の集光手段に円錐レンズ5を用いることにより、環状のレーザ光8を形成させる。レーザ光が所定の環状となる位置に被加工物9を配置した後、環状のレーザ光8を所定時間照射することによって、熱処理を完了する。

請求項（抜粋）：

レーザ発振器からのレーザ光を被加工物の円周表面に集光照射する円周表面の熱処理方法において、前記被加工物の円周表面に一致する環状のレーザ光を照射することを特徴とする円周表面の熱処理方法。

IPC (4件)：

C21D 1/09 , B23K 26/00 , B23K 26/06 , C21D 1/34

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