特許
J-GLOBAL ID：200903027510884826
ジアミノジフェニルメタンとその高級同族体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-158621
公開番号（公開出願番号）：特開2001-026571
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 ジアミノジフェニルメタンの新規な製造方法を提供すること。【解決手段】 アニリン、もしくはその誘導体の内の一つと、ホルムアルデヒド、もしくは反応条件下でホルムアルデヒドを生成することのできる化合物を、2.5〜19の空隙率をもつ酸の形のゼオライトの存在下で反応させることからなる、ジアミノジフェニルメタンとその高級同族体生成物の製造方法。
請求項（抜粋）：
一般式(I)【化1】(式中、Φはフェニル基を示し、Rは水素原子、C1〜C8(イソ)アルキル基、C4〜C10シクロアルキル基、もしくはC6〜C12芳香族基を示し、nは1、もしくはそれ以上であって、官能価を2〜4とする整数である)をもつジアミノジフェニルメタンとその高級同族体の製造方法であって、2.5〜19(2.5、及び19を含む)の空隙率をもつ酸の形のゼオライトの存在下で、一般式(II)【化2】をもつ中間体の転位反応を行うことを含んでなる、前記製造方法。
IPC (7件)：
C07C209/54
, B01J 29/18
, B01J 29/70
, C01B 39/26
, C01B 39/42
, C07C211/50
, C07B 61/00 300
C07C209/54
, B01J 29/18 X
, B01J 29/70 X
, C01B 39/26
, C01B 39/42
, C07C211/50
, C07B 61/00 300
