特許

J-GLOBAL ID：200903027511560820

ポジ型レジスト組成物

発明者： 山中 司 ,  藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-348925
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149815
出願日： 2001年11月14日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 高感度で、ハーフトーン露光適性及びパターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)下記一般式(I)で表される塩基性化合物、及び(D)有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)下記一般式(A-1)で表される化合物、及び、(D)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式(A-1)中、Ra及びRbは、同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリール基又はR1C(=O)-を表す。Rc及びRdは、同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、R1C(=O)-、N(R2)(R3)-、又は、アリール基を表す。R1は、水酸基、アルキル基又はN(R4)(R5)-を表す。R4及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を示す。R2及びR3は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリールスルホニル基又はR6C(=O)-を表す。R6は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/20 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/20 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (61件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100AR09Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03T ,  4J100BA05Q ,  4J100BA05R ,  4J100BA05T ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA12Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15S ,  4J100BA15T ,  4J100BA16Q ,  4J100BA16T ,  4J100BA20Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BA59T ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA39 ,  4J100JA36