特許

J-GLOBAL ID：200903027511850836

ポジ型感放射線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパタ-ンの製造法

発明者： 仁王 宏之 ,  田村 一貴 ,  金築 重佳
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-084179
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352676
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】ノボラック樹脂、キノンジアジド感光剤を主成分とするポジ型感放射線レジスト組成物において、高精細なパターンを形成し得る高感度のポジ型感放射線レジスト組成物を提供する。【解決手段】主成分としてノボラック樹脂、キノンジアジド化合物、一般式(1)で表される化合物を少なくとも1種以上含むことを特徴とするポジ型感放射線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法。【化1】(R1、R2は水素原子、炭素数1から15までの直鎖、分枝または環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基のいずれかを示し、R3は水素原子、炭素数1から15までの直鎖または分鎖のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基のいずれかを示す。R1とR2、またはR1とR3が閉環したものを含む。)

請求項（抜粋）：

主成分として、(1)置換基を有するフェノール化合物とアルデヒド化合物を縮合して得られるノボラック樹脂、(2)ポリフェノール化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホニルクロリドおよび/または1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニルクロリドを反応して得られるキノンジアジド化合物、および(3)一般式(1)で表される化合物を少なくとも1種以上含むことを特徴とするポジ型感放射線レジスト組成物。【化1】(R1、R2は水素原子、炭素数1から15までの直鎖、分枝または環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基のいずれかを示し、R3は水素原子、炭素数1から15までの直鎖または分鎖のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基のいずれかを示す。R1とR2、またはR1とR3が閉環したものを含む。)

IPC (3件)：

G03F 7/004 502 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 502 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R