特許

J-GLOBAL ID：200903027516810549

光ディスク原盤の製造方法

発明者： 高本 健治 ,  永島 道芳 ,  植野 文章 ,  貴志 俊法 ,  宮本 寿樹 ,  阿部 伸也
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-302021
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150395
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 交番するトラックで2種類の幾何学的ピット高さとなる様に構成した光ディスク原盤の製造方法を提供する。【構成】 ガラス基板1上に下層に波長λ2に感度を持つポジレジスト2、上層に波長λ1に感度を持つネガレジスト3を塗布し、ネガレジスト層を波長λ1のレーザービーム4a照射で露光、同時にポジレジスト層に波長λ2のレーザービーム4b照射で露光して、現像する事でピット高さの異なるピット列6aと7を形成する。そして、これにNi等の金属材料8をメッキ等で被覆し、その後、この金属材料8を基板1より剥離してスタンパ金型9を得る。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布されたレジスト膜に、信号変調したレーザービームを照射後現像して、トラック状に配置したピット高さの異なる交番するピット列を備えた光ディスク原盤の製造方法であって、基板上に、未感光時にネガレジストの現像液に対して溶解抑制機能を有するポジレジストと、ポジレジストの露光ビーム波長λ2には感光しにくいネガレジストを、下層にポジレジスト、上層にネガレジストをそれぞれ任意の膜厚で塗布して積層構造となし、上層のネガレジスト層は波長λ1のレーザー光で第1のピット列を露光し、同時または独立に第1のピット列に隣合う第2のピット列を、下層のポジレジスト層に波長λ2のレーザービーム照射で露光し、次にネガレジストを現像して第1のピット列を形成し、続いてポジレジストを現像してピット高さの異なる第2のピット列を形成する事を特徴とする光ディスク原盤の製造方法。