特許
J-GLOBAL ID:200903027519469104

廃棄物処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北村 修 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-229639
公開番号(公開出願番号):特開平10-073221
出願日: 1996年08月30日
公開日(公表日): 1998年03月17日
要約:
【要約】【課題】 ロータリーキルンの加熱機構の信頼性及び安全性を高めた廃棄物処理システムを提供する。【解決手段】 廃棄物1を乾留処理して乾留ガス3を生成する乾留用ロータリーキルン4と、乾留ガス3を燃焼させる燃焼処理装置Nとを備える廃棄物処理システムにおいて、燃焼処理装置Nで生じた燃焼排ガス6を、乾留用ロータリーキルン4の乾留熱源として乾留用ロータリーキルン4に誘導する燃焼排ガス供給装置Jを備えた。
請求項(抜粋):
廃棄物(1)を乾留処理して乾留ガス(3)を生成する乾留用ロータリーキルン(4)と、当該乾留ガス(3)を燃焼させる燃焼処理装置(N)とを備える廃棄物処理システムにおいて、前記燃焼処理装置(N)で生じた燃焼排ガス(6)を、前記乾留用ロータリーキルン(4)の乾留熱源として前記乾留用ロータリーキルン(4)に誘導する燃焼排ガス供給装置(J)を備えた廃棄物処理システム。
IPC (6件):
F23G 5/20 ZAB ,  B01D 53/68 ,  F23G 5/00 ZAB ,  F23G 5/00 115 ,  F23G 5/027 ZAB ,  F23J 15/00
FI (6件):
F23G 5/20 ZAB A ,  F23G 5/00 ZAB ,  F23G 5/00 115 Z ,  F23G 5/027 ZAB Z ,  B01D 53/34 134 A ,  F23J 15/00 B
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-326974
  • 特開平4-302909
  • 特開平4-326974
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