光学的立体造形用樹脂及び光学的立体造形用樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：入山宏正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-340050
公開番号（公開出願番号）：特開平8-183823
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】【目的】本発明は、機械的物性及び熱的物性に優れ、また形状精度に優れた立体造形物を得ることができる、光学的立体造形用樹脂及び光学的立体造形用樹脂組成物を提供するものである。【構成】本発明の光学的立体造形用樹脂は特定構造の短鎖型不飽和ウレタンと、特定構造の長鎖型不飽和ウレタンと、特定のビニル単量体とがそれぞれ所定割合から成ることを特徴としている。また本発明の光学的立体造形用樹脂組成物は上記の光学的立体造形用樹脂に特定のフィラーを所定割合で含有して成ることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

下記の式1で示される短鎖型不飽和ウレタンと、下記の式2、式3又は式4で示される長鎖型不飽和ウレタンと、下記のビニル単量体とから成り、該短鎖型不飽和ウレタン/該長鎖型不飽和ウレタン=20/80〜80/20(重量比)の割合で含有していて、該短鎖型不飽和ウレタンと該長鎖型不飽和ウレタンとの合計量/該ビニル単量体=100/25〜100/150(重量比)の割合から成ることを特徴とする光学的立体造形用樹脂。【式1】【式2】【式3】【式4】(式1〜式4において、X:ジイソシアネートからイソシアネート基を除いた残基Z1:ウレタンジイソシアネート又はウレタントリイソシアネートからイソシアネート基を除いた残基Z2:ポリウレタンジイソシアネート又はポリウレタントリイソシアネートからイソシアネート基を除いた残基Z3:いずれも2又は3価のポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール及びポリエーテルエステルポリオールから選ばれるポリオールから水酸基を除いた残基A1,A2:下記の式5又は式6で示される基B1,B2:それぞれ同時に同一又は異なる、下記の式5で示される基B3:同時に同一又は異なる、下記の式7で示される基m,n,p:2又は3)【式5】【式6】【式7】(式5、式6及び式7において、R1,R2,R3,R4:H又はCH3Y1:2価アルコールから水酸基を除いた残基Y2:3価アルコールから水酸基を除いた残基Y3:炭素数2〜4のアルキレン基)ビニル単量体:(メタ)アクリル酸モルホリド又は(メタ)アクリル酸モルホリドとジオールジ(メタ)アクリレートとの混合物

IPC (6件)：

C08F290/06 MRW , B29C 35/08 , B29C 67/00 , G03F 7/027 513 , B29K 75:00 , B29K101:00

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