特許

J-GLOBAL ID：200903027529675004

枚葉式の熱処理装置

発明者： 大加瀬 亘 ,  長谷井 雅昭
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-375151
公開番号（公開出願番号）：特開2000-182974
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】 処理ガスの流れ状態を改善して熱処理の面内均一性を向上させることが可能な枚葉式の熱処理装置を提供する。【解決手段】 真空引き可能になされた処理容器24内に設けられた載置台36上に被処理体Wを載置し、前記処理容器の天井部に設けたシャワーヘッド102から処理ガスを供給しつつ前記載置台の外周に配置したリング状の整流板66を介して前記処理容器内の下方より真空引きして前記被処理体に所定の処理を施す枚葉式の熱処理装置において、前記載置台と、前記整流板との間に、両者間の間隙を塞ぐためのリング状の封止板64を設ける。これにより、処理ガスの流れ状態を改善して熱処理の面内均一性を向上させる。

請求項（抜粋）：

真空引き可能になされた処理容器内に設けられた載置台上に被処理体を載置し、前記処理容器の天井部に設けたシャワーヘッドから処理ガスを供給しつつ前記載置台の外周に配置したリング状の整流板を介して前記処理容器内の下方より真空引きして前記被処理体に所定の処理を施す枚葉式の熱処理装置において、前記載置台と、前記整流板との間に、両者間の間隙を塞ぐためのリング状の封止板を設けるように構成したことを特徴とする枚葉式の熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 D

Fターム (31件)：

4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030DA08 ,  4K030EA05 ,  4K030EA11 ,  4K030FA08 ,  4K030KA10 ,  4K030KA12 ,  4K030KA17 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F045AC15 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AE25 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EF04 ,  5F045EF05 ,  5F045EF08 ,  5F045EF11 ,  5F045EF15 ,  5F045EK19