特許
J-GLOBAL ID：200903027530807445
シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜及び半導体装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-196206
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041293
出願日： 1996年07月25日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 平坦性の良好なシリカ系被膜形成用塗布液、その製造方法、シリカ系被膜及びこのシリカ系被膜を有する半導体装置を提供する。【解決手段】 一般式(I)【化1】(式中Rは炭素数1〜4のアルキル基又はアリール基、R′は炭素数1〜4のアルキル基であり、これらの基の水素は炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよく、nは2〜4の整数を示す)で表されるアルコキシシラン化合物の少なくとも1種を溶媒中で加水分解縮重合させてシロキサンポリマーを合成する際に沸点200°C以上の有機溶媒を1種類以上用い、加水分解反応の結果生成するアルコールを含め溶媒を2種類以上とすることを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液の製造方法、この製造方法により得られたシリカ系被膜形成用塗布液、このシリカ系被膜形成用塗布液を基板上に塗布し、50〜250°Cで乾燥した後、窒素雰囲気下260〜600°Cで加熱硬化されてなるシリカ系被膜及びこのシリカ系被膜の形成された半導体装置。
請求項（抜粋）：
一般式(I)【化1】(式中Rは炭素数1〜4のアルキル基又はアリール基、R′は炭素数1〜4のアルキル基であり、これらの基の水素は炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよく、nは2〜4の整数を示す)で表されるアルコキシシラン化合物の少なくとも1種を溶媒中で加水分解縮重合させてシロキサンポリマーを合成する際に沸点200°C以上の有機溶媒を1種類以上用い、加水分解反応の結果生成するアルコールを含め溶媒を2種類以上とすることを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液の製造方法。
IPC (5件)：
H01L 21/316
, C08G 77/06 NUB
, C09D 1/00 PCJ
, C09D183/04 PMS
, H01L 21/768
H01L 21/316 G
, C08G 77/06 NUB
, C09D 1/00 PCJ
, C09D183/04 PMS
, H01L 21/90 Q
