特許
J-GLOBAL ID:200903027531467893

周辺露光方法及び周辺露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田辺 恵基
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-194960
公開番号(公開出願番号):特開平8-045826
出願日: 1994年07月27日
公開日(公表日): 1996年02月16日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】感光基板の周辺部を露光する際、露光光の光軸方向に対する感光基板の位置が検出できないために露光が中止される感光基板を極力減らし得る周辺露光方法及び周辺露光装置を提供する。【構成】露光光の光軸方向に対する感光基板の位置が検出できなかつた場合、予め指定されたピツチで基板位置検出手段46,47の検出点AFが感光基板PGの内側に移動する方向に、その感光基板PGと検出点AFとを相対移動させ、感光基板の位置を再検出するようにしたことにより、位置検出の条件の悪い感光基板の周辺部から条件の良い内側に移動することになり、位置を検出できる可能性を向上させ、感光基板の位置が検出できないため露光が中止される感光基板を極力減らすことができる。
請求項(抜粋):
感光基板の周辺部に露光光を照射して前記周辺部を露光する際に、基板位置検出手段によつて前記露光光の光軸方向に関する前記感光基板の位置を検出して、前記感光基板を前記光軸方向の所定位置に配置する前記感光基板の周辺露光方法において、前記感光基板の位置が検出できなかつた場合、予め指定されたピツチで前記基板位置検出手段の検出点が前記感光基板の内側に移動する方向に、該感光基板と前記検出点とを相対移動させ、前記感光基板の位置を再検出することを特徴とする周辺露光方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/22

前のページに戻る