特許

J-GLOBAL ID：200903027531544448

膜形成方法

発明者： 鈴木 泰雄 ,  岡本 康治
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-336256
公開番号（公開出願番号）：特開平5-148649
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：

【要約】【目的】 母材の表面に厚膜を形成する場合に、当該厚膜の母材に対する密着強度を向上させることができる膜形成方法を提供する。【構成】 母材の表面に厚膜4を形成する際に、当該厚膜4の形成に先立って、母材2に、当該厚膜4を構成する金属のイオン6を注入する。

請求項（抜粋）：

母材の表面に厚膜を形成する際に、当該厚膜の形成に先立って、母材に、当該厚膜を構成する金属のイオンを注入することを特徴とする膜形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/48 ,  C23C 14/02 ,  C23C 28/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平2-004960
  
• 特開平3-017267
  
• 特開平3-097848
  
• 特開平3-124032
  
• 特開平1-162757