特許
J-GLOBAL ID：200903027542372932
超純水製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-093163
公開番号（公開出願番号）：特開平9-253639
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【目的】 2次純水系システムにおけるTOC除去率を向上させた超純水製造装置を提供する。【構成】 2次純水系システムCに、紫外線酸化装置16と、その上流側に存して被処理水中の溶存窒素を除去する脱ガス装置14とを設置する。これにより、紫外線酸化装置16において、紫外線照射エネルギーのほぼ全部がTOCの酸化分解に有効利用されるようにする。また、脱ガス装置14と紫外線酸化装置16との間に、被処理水に酸素ガス及び/又はオゾンガスを添加する酸素又はオゾン添加装置26を設置する。これにより、紫外線酸化装置16におけるTOC分解効率がさらに高くなる。
請求項（抜粋）：
1次純水系システムと2次純水系システムとを備えた超純水製造装置であって、紫外線酸化装置と、その上流側に存して被処理水中の溶存窒素を除去する脱ガス装置とを2次純水系システムに設置したことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (4件)：
C02F 1/32
, C02F 1/20
, C02F 1/78
, H01L 21/304 341
C02F 1/32
, C02F 1/20 A
, C02F 1/78
, H01L 21/304 341 L
