特許
J-GLOBAL ID：200903027555048000
荷電ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-344702
公開番号（公開出願番号）：特開平5-174774
出願日： 1991年12月26日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 光学鏡筒内でマイクロ波放電等の異常が発生した際に描画を停止することができ、欠陥のないパターン描画を行い得る電子ビーム描画装置を提供すること。【構成】 電子銃11から放出された電子ビームを電子ビーム光学鏡筒10内で集束・偏向制御して試料上22に照射し、該試料22上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画装置において、光学鏡筒10内に配置され、この鏡筒10内を通過する電子ビームを検出する電子ビーム検出電極41と、この電子ビーム検出電極41の検出出力を許容値(Ed1,Ed2)と比較して光学鏡筒10内の電子ビームの状態を検出するコンパレータ44と、このコンパレータ44により電子ビームの異常が検出された時にパターン描画を中断する機構とを具備してなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
荷電ビーム源から放出された荷電ビームを光学鏡筒内で集束・偏向制御して試料上に照射し、該試料上に所望のパターンを描画する荷電ビーム描画装置において、前記光学鏡筒内に配置され、該鏡筒内を通過する荷電ビームを検出する荷電ビーム検出器と、この荷電ビーム検出器の検出出力に基づいて前記光学鏡筒内の荷電ビームの状態を検出する手段と、この手段により荷電ビームの異常が検出された時に描画を中断する手段とを具備してなることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (2件)：
H01J 37/305
, H01L 21/265
