特許

J-GLOBAL ID：200903027555182067

薄膜型NDフィルター及びその製造方法

発明者： 天野 佐代子 ,  阿部 進 ,  沢村 光治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234098
公開番号（公開出願番号）：特開平7-063915
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 可視領域全般にわたり均一の分光特性を有した耐久性の優れた薄膜型NDフィルター及びその製造方法を得ること。【構成】 透過光量を減衰させる薄膜型NDフィルタ-において、透明基板面上に可視域の波長域で屈折率nと消衰係数kが1.0から3.0の範囲にある2種以上の金属酸化物を用いて構成することにより、平坦な透過率特性を有すること。

請求項（抜粋）：

透過光量を減衰させる薄膜型NDフィルタ-において、透明基板面上に可視域の波長域で屈折率nと消衰係数kが1.0から3.0の範囲にある2種以上の金属酸化物を用いて構成することにより、平坦な透過率特性を有することを特徴とする薄膜型NDフィルタ-。