特許
J-GLOBAL ID：200903027560389648
透過放射型X線管およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-100403
公開番号（公開出願番号）：特開2002-298772
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：
【要約】【課題】 電子ビーム強度をより増やして発生X線量を増大させることが可能な透過放射型X線管およびその製造方法を提供すること。【解決手段】 真空容器33の一部に気密接合されたX線透過窓板37と、このX線透過窓板37の真空側の面上に直接または間接的に設けられたX線を発生させる陽極ターゲット薄膜39と、この陽極ターゲット薄膜39に照射する電子ビームを発生する陰極構体35とを具備した透過放射型X線管において、陽極ターゲット薄膜39の少なくとも一部が陰極構体35に対し凹面42になっている。
請求項（抜粋）：
真空容器の一部に気密接合されたX線透過窓板と、このX線透過窓板の真空側の面上に直接または間接的に設けられたX線を発生させる陽極ターゲット薄膜と、この陽極ターゲット薄膜に照射する電子ビームを発生する陰極構体とを具備した透過放射型X線管において、前記陽極ターゲット薄膜の少なくとも一部が前記陰極構体に対し凹面になっていることを特徴とする透過放射型X線管。
IPC (3件)：
H01J 35/08
, H01J 9/14
, H01J 35/18
H01J 35/08 C
, H01J 9/14 M
, H01J 35/18
