特許
J-GLOBAL ID:200903027563124289

高スループットのオルガノメタリック気相成長装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-560296
公開番号(公開出願番号):特表2002-520871
出願日: 1999年07月12日
公開日(公表日): 2002年07月09日
要約:
【要約】コールド・ウォール型反応装置(10)は、環状の反応装置壁(16)を規定する内側壁部(14)及び外側壁部(12)を有している。サセプター(52)はセル(16)内に回転可能なように取り付けられている。サセプター(52)がウェーハ(53)を支持して、ウェーハはセル(16)内を軸方向に流れるガスによって処理される。反応装置の外側壁部(10)は通常は冷却されているが、セル(16)の清浄化が必要とされる場合には、適当な炉(210)によって加熱されて、ホット・ウォール型反応装置を提供する。
請求項(抜粋):
閉じた端部及び開いた端部を有する中央キャビティを取り囲む内側壁部; 前記内側壁部から離れて、前記内側壁部を取り囲み、内側壁部との間に反応装置を提供する外側壁部; 前記セル内に回転可能なように取り付けられるサセプター;及び 中央キャビティ内に設けられ、サセプターを加熱する加熱手段を有してなるコールド・ウォール型反応装置。
IPC (2件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/44
FI (2件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/44 J
Fターム (26件):
4K030AA11 ,  4K030EA03 ,  4K030GA06 ,  4K030JA05 ,  4K030KA05 ,  4K030KA10 ,  4K030KA22 ,  4K030KA24 ,  4K030KA26 ,  4K030KA41 ,  5F045AA04 ,  5F045AB10 ,  5F045AB12 ,  5F045AC01 ,  5F045AC12 ,  5F045DP16 ,  5F045DP27 ,  5F045DQ04 ,  5F045EB06 ,  5F045EC02 ,  5F045EC05 ,  5F045EE04 ,  5F045EE20 ,  5F045EJ04 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK03

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