特許
J-GLOBAL ID：200903027569464642
リソグラフィー用ペリクル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-245827
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067409
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置、液晶表示板製造時のゴミよけ用に 500nm以下の露光方式で使用される、接着強度が大きく、光劣化しないリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、フッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
フッ素系有機物からなるペリクル膜をフッ素系有機物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (2件)：
引用特許：
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