特許

J-GLOBAL ID：200903027578705547

極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク並びにパターン転写方法

発明者： 松尾 正 ,  西山 泰史 ,  金山 浩一郎 ,  田村 信平
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (5件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-072943
公開番号（公開出願番号）：特開2007-088414
出願日： 2006年03月16日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：

【課題】吸収膜の大幅な低反射率化、成膜工程の複雑化を必要とせずに、吸収膜の欠陥検査が可能であるとともに、緩衝膜の剥離時に生じる欠陥に対しても、検査が可能な極端紫外線露光用マスクを提供すること。【解決手段】基板上に形成された多層膜からなる露光光の高反射部と、前記多層膜を保護するキャッピング膜と、前記キャッピング膜上に緩衝膜を介してパターン状に形成された吸収膜からなる低反射部とを具備する極端紫外線露光用マスクにおいて、前記緩衝膜を剥離する前の、前記多層膜、キャッピング膜及び緩衝膜からなる部分の、波長190nm〜260nmの紫外線に対する反射率が、前記吸収膜を含む部分の反射率より低いことを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成された多層膜からなる高反射部と、前記多層膜を保護するキャッピング膜と、前記キャッピング膜上に緩衝膜を介してパターン状に形成された吸収膜からなる低反射部とを具備する極端紫外線露光用マスクにおいて、前記緩衝膜を剥離する前の、前記多層膜、キャッピング膜及び緩衝膜からなる部分の、波長190nm〜260nmの紫外線に対する反射率が、前記吸収膜を含む部分の反射率より低いことを特徴とする極端紫外線露光用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A

Fターム (14件)：

2H095BA10 ,  2H095BB14 ,  2H095BC11 ,  2H095BC19 ,  2H095BD04 ,  2H095BD12 ,  5F046AA18 ,  5F046CB17 ,  5F046DA01 ,  5F046GA03 ,  5F046GD07 ,  5F046GD10 ,  5F046GD11 ,  5F046GD15