特許
J-GLOBAL ID：200903027590076628
薄膜パターニング用基板およびその表面処理
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999001327
公開番号（公開出願番号）：WO1999-048339
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 1999年09月23日
要約：
【要約】画素毎での膜厚のばらつきが少ないEL素子などの表示装置あるいはカラーフィルタを提供する。これらはバンクで区切られた被塗布領域にインクジェット法によって形成され、バンク幅をa、その高さをc、被塗布領域の幅をb、薄膜層を形成する液体材料の液滴径をd、薄膜層の膜厚をt<SB>O</SB>とするとき、バンクが、a>d/4、d/2<b<5d、c>t<SB>O</SB>、c>(1/2)×(d/b)の各々の条件を満足するように基板上に形成される。また表面改質方法として、無機物のバンク形成面に有機物でバンクを形成し、フッ素過多の条件下でプラズマ処理を行う方法、又は有機物で形成したバンクを有する基板に酸素ガスプラズマ処理を行った後、フッ素系ガスプラズマ処理を行う方法。
請求項（抜粋）：
インクジェット法により薄膜をパターニング形成するために用いられる、所定の高さのバンクおよび該バンクにより区切られた被塗布領域が面上に形成された薄膜パターニング用基板において、 前記バンクの幅をa(μm)、その高さをc(μm)とし、前記被塗布領域の幅をb(μm)とし、かつ、薄膜層を形成する液体材料のインクジェット液滴径をd(μm)とするとき、前記バンクが、(d/2)<b<5dを満足するように形成されていることを特徴とする薄膜パターニング用基板。
IPC (8件)：
H05B 33/22
, H05B 33/10
, G02B 5/20
, G09F 9/00
, G09F 9/30
, H01L 29/78
, H01L 27/15
, H01L 29/28
