特許
J-GLOBAL ID：200903027603790023
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-134426
公開番号（公開出願番号）：特開平8-329420
出願日： 1995年05月31日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【目的】 リード線を容易且つ正確に形成することができ、成膜不良の発生が抑止されて製品の信頼性及び歩留りの大幅な向上を図ることを可能とする薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【構成】 リード線形成層36を素子部31の形成と同時に略々同一の高さに形成し、素子部31からリード線形成層36に架けてリード線32〜35を積層形成する。
請求項（抜粋）：
磁性層,導体層が絶縁層を介して多層に積層され磁気ヘッド素子部が形成されるとともに、上記導体層と電気的に接続されるリード線を備えてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、上記リード線の外部端子接続部に対応する位置に所定の厚みを有する下地層が形成され、この上にリード線の外部接続端子部が形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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