特許
J-GLOBAL ID：200903027604817731
電子線描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195139
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045238
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 マスク基板1をステ-ジ7上に直接保持してこれ十分平坦に保持することのできる電子線描画装置を提供する。【構成】 裏面に導電層10を設けたマスク基板1を誘電層11を介してステ-ジ7上に載置し、導電層10とステ-ジ7間に電圧を印加してマスク基板1を静電吸着する。
請求項（抜粋）：
ステ-ジ上の被描画試料に電子線を照射して描画する電子線描画装置において、上記ステ-ジ上に誘電体層を設け、上記誘電体層上に載置した被描画試料とステ-ジ間に電圧を印加する電源装置を備えたことを特徴とする電子線描画装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01L 21/68
