特許
J-GLOBAL ID：200903027605209034
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-132178
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335709
出願日： 1994年06月14日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】タクトタイムを短縮するとともに、精度が高くメンテナンスが容易な真空処理装置を提供する。【構成】試料を一個ずつプラズマ処理する真空処理装置において、該真空処理装置の一方の側に前記試料をプラズマ処理する処理室6が配置され、該真空処理装置の他方の側にロ-ド側のロ-ドロック室4及びアンロ-ド側のロ-ドロック室5が配置され、前記処理室と前記両ロ-ドロック室の間に、前記試料の後処理を行う後処理室及び前記試料を搬送するアームを有する真空ロボット10が配置され、該真空ロボットのアームの旋回範囲が略半円であり、該真空ロボットにより前記両ロ-ドロック室と前記処理室及び前記後処理室間の真空雰囲気で前記試料を搬送する。バッファ室1は、単一の構造物の一部をくりぬいて形成される。【効果】試料を搬送するロボットアームの旋回範囲が略半円以内であり、タクトタイムが短縮される。
請求項（抜粋）：
試料を一個ずつプラズマ処理する真空処理装置において、該真空処理装置の一方側に前記試料をプラズマ処理する処理室が配置され、該真空処理装置の他方側にロ-ド側のロ-ドロック室及びアンロ-ド側のロ-ドロック室が配置され、前記処理室と前記両ロ-ドロック室の間に、前記試料の後処理を行う後処理室及び前記試料を搬送するアームを有する一個の真空ロボットが配置され、該真空ロボットのアームの旋回範囲が略半円であり、該真空ロボットにより前記両ロ-ドロック室と前記処理室及び前記後処理室間の真空雰囲気で前記試料を搬送するよう構成されている、ことを特徴とする真空処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, C23C 14/56
, H01L 21/02
, H01L 21/31
