特許
J-GLOBAL ID:200903027609978245
フィルター装置および半導体製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
大岩 増雄
, 児玉 俊英
, 竹中 岑生
, 村上 啓吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-165468
公開番号(公開出願番号):特開2005-000767
出願日: 2003年06月10日
公開日(公表日): 2005年01月06日
要約:
【課題】気泡に基づくフィルターの濾過性能の悪化問題のないフィルター装置およびそれを用いた半導体製造装置を提供することを課題とする。【解決手段】フィルターハウジング21の上部に多孔部を含む仕切体23で仕切られた被濾過液収容室22を設け、仕切体23の下にフィルター室25を設け、循環ポンプ3により基板洗浄槽1の外槽12内の気泡を含む基板洗浄液、即ち被濾過液を被濾過液収容室22に供給する。被濾過液中の気泡は、気泡排出部24から基板洗浄槽1の外槽12に戻され、被濾過液中の固形物は、フィルター室25のフィルター251により濾過分離される。固形物が濾過された被濾過液は、基板洗浄槽1の内槽11に戻される。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
フィルターハウジング、上記フィルターハウジングの上部に設けられて少なくとも一部に多孔部を含む仕切体で仕切られた被濾過液収容室、上記被濾過液収容室に気泡を含む被濾過液を供給する液供給装置、上記被濾過液から浮遊する上記気泡を上記フィルターハウジングの外に排出する気泡排出部、上記多孔部の下に設置されたフィルター、上記被濾過液収容室内の被濾過液を上記多孔部および上記フィルターを経由して上記フィルターハウジングの外に排出する液排出装置を備えたことを特徴とするフィルター装置。
IPC (5件):
B01D35/30
, B01D19/00
, B01D35/00
, H01L21/304
, H01L21/306
FI (5件):
B01D35/30
, B01D19/00 G
, B01D35/00
, H01L21/304 648F
, H01L21/306 J
Fターム (9件):
4D011AA08
, 4D011AC04
, 4D011AC06
, 4D011AD02
, 4D011AD03
, 4D064AA31
, 4D064CD01
, 4D064CD05
, 5F043EE30
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