特許
J-GLOBAL ID：200903027613391305

プラズマ処理方法、プラズマ処理装置およびプラズマモニタリング装置

発明者：
戸野谷 純一

戸野谷 純一 について

, 
福水 裕之

福水 裕之 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-246175
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340550
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ処理装置のチャンバ内部の処理状態の変動を処理中の膜堆積の影響を殆ど受けずに高感度でモニタリングしながらプラズマ処理することが可能なプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理容器中でプラズマを発生させて所定の処理を行うプラズマ処理方法であって、前記プラズマへ高周波電力を周波数を変えながら導入してプラズマからの反射波電力を求め、反射波電力の極小値に対応する高周波電力の周波数を検出し、プラズマ処理中の前記周波数の変化に基づいてプラズマの状態をモニタリングすることを特徴とするプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理容器中でプラズマを発生させて所定の処理を行うプラズマ処理方法であって、前記プラズマへ高周波電力を周波数を変えながら導入してプラズマからの反射波電力を求め、反射波電力の極小値に対応する高周波電力の周波数を検出し、プラズマ処理中の前記周波数の変化に基づいてプラズマの状態をモニタリングすることを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H01L 21/302 E ,  H05H 1/00 A ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Fターム (10件)：
5F004BA04 ,  5F004BA14 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004CB06 ,  5F004DA00 ,  5F004DA18 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB12
引用特許：
審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM