特許

J-GLOBAL ID：200903027630161810

基板の表面処理用超音波発生装置

発明者： 村井 剛 ,  小中 敏典
出願人/特許権者： エム・セテック株式会社
代理人 (1件)： 森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-129720
公開番号（公開出願番号）：特開平8-299928
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【目的】 本発明方法の目的は、洗浄や薬液による表面処理効果が非常に高く且つ基板上に発生する気泡を速やかに除去し、且つ基板の表面側にあっては表面側の微細に加工された凹凸部に存在する塵埃を除去できる画期的な基板の表面処理用超音波発生装置を開発することにある。【構成】 洗浄液や薬液など表面処理液(L)による表面被処理用の基板(1)の少なくとも一方の面に近接して配設され、前記基板(1)との間を流れる処理液(L)に超音波を印加して基板(1)の表面を処理する基板(1)の表面処理用超音波発生装置(Z)であって、超音波を発生する振動子(3)と、振動子(3)を収納するハウジング(4)とで構成されており、振動子(3)とハウジング(4)の基板(1)に対向する対向面(12)との間に超音波伝達部(11)が形成されている事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

洗浄液や薬液など表面処理液による表面被処理用の基板の少なくとも一方の面に近接して配設され、前記基板との間を流れる処理液に超音波を印加して基板の表面を処理する基板の表面処理用超音波発生装置であって、超音波を発生する振動子と、振動子を収納するハウジングとで構成されており、振動子とハウジングの基板に対向する対向面との間に超音波伝達部が形成されている事を特徴とする基板の表面処理用超音波発生装置。

IPC (3件)：

B08B 3/12 ,  B06B 3/00 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

B08B 3/12 B ,  B06B 3/00 ,  H01L 21/304 341 Z