特許
J-GLOBAL ID:200903027635058944
光分析用測定器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 正年 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-343046
公開番号(公開出願番号):特開平7-167775
出願日: 1993年12月15日
公開日(公表日): 1995年07月04日
要約:
【要約】【目的】 試料のμm単位以下の微少領域における表面の状態(凹凸形状等)や光学的特性(吸収や透過等)を観察できる光学的分析手段を提供すること。【構成】 光源手段と、光源手段からの検査光束を試料で全反射する様に導く照射光学系と、試料の前記照射面とは反対側においてエバネッセント光を探査するプローブを有する探査系と、プローブにより検出されたエバネッセント光を光電変換して検出信号として取り出す検出系と、前記検出信号を演算処理することにより試料の光学的分析を行う分析手段とを備えた光分析用測定器。
請求項(抜粋):
光源手段と、光源手段からの検査光束を試料で全反射する様に導く照射光学系と、試料の前記照射面とは反対側においてエバネッセント光を探査するプローブを有する探査系と、プローブにより検出されたエバネッセント光を光電変換して検出信号として取り出す検出系と、前記検出信号を演算処理することにより試料の光学的分析を行う分析手段と、を備えた光分析用測定器。
IPC (4件):
G01N 21/27
, G01B 11/30
, G01N 37/00
, G02B 21/00
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