特許
J-GLOBAL ID：200903027637850025
パウダービームデポジションとエッチングの方法及びこの方法を用いて加工した記録再生ヘッド用スライダ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-327737
公開番号（公開出願番号）：特開平5-162077
出願日： 1991年12月11日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】【目的】パウダーが均一に分散した固気2相混合噴射流を被加工物に噴射してデポジションとエッチングを施し、被加工物の表面を加工することを目的とする。【構成】被加工物1の被加工面2をマスクし、このマスク3上からパウダーが均一に分散した固気2相混合噴射流4を噴射して被加工面2にデポジションを施し、膜5を形成させ、そのマスク3を除去して、膜5上から同様に固気2相混合噴射流7を噴射して被加工面6にエッチングを施し、溝を形成させようとしたもので、記録再生ヘッド用スライダ10が例示されている。【効果】デポジション、エッチングの工程が即座に出来る。また、形状、寸法にズレを生ぜず、精密部品を得ることができる。
請求項（抜粋）：
被加工物をマスクし、該マスク上から第1のパウダーが均一に分散した固気2相混合噴射流を高速噴射して前記被加工物にデポジションを施し、その後前記マスクを除去して第2のパウダーが均一に分散した固気2相混合噴射流を高速噴射して前記被加工物の前記マスク除去領域にエッチングを施すことを特徴とするパウダービームデポジションとエッチングの方法。
IPC (3件)：
B24C 1/04
, B01J 4/00 105
, C23F 1/00
