特許
J-GLOBAL ID：200903027638159784
露光用マスク及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-181281
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026355
出願日： 1997年07月07日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】 遮光膜のエッチングに起因する寸法変換差や、遮光膜の薄皮残り等が生じるのを防止することができ、露光精度の向上に寄与する。【解決手段】 フォトマスクの製造方法において、石英からなる透明基板11上にレジストパ12のターンを形成したのち、このレジストパターンをマスクに基板11を選択エッチングして溝部13を形成し、次いで溝部13を有する基板11の表面上にシリコンからなる遮光膜14を形成し、次いで遮光膜14及び基板11をCMP法で所定量エッチングすることにより、溝部13に遮光膜14を埋め込むと共に基板表面を平坦化し、しかるのち基板11の遮光膜形成面に透明膜を形成する。
請求項（抜粋）：
表面部に溝が形成された透明基板と、前記溝内に埋め込み形成された遮光膜とを具備してなり、前記基板表面が平坦化されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 1/14
H01L 21/30 502 P
, G03F 1/08 L
, G03F 1/08 A
, G03F 1/14 A
