特許
J-GLOBAL ID：200903027638159784

露光用マスク及びその製造方法

発明者：
金井 秀樹

金井 秀樹 について

, 
奥村 勝弥

奥村 勝弥 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-181281
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026355
出願日： 1997年07月07日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】 遮光膜のエッチングに起因する寸法変換差や、遮光膜の薄皮残り等が生じるのを防止することができ、露光精度の向上に寄与する。【解決手段】 フォトマスクの製造方法において、石英からなる透明基板11上にレジストパ12のターンを形成したのち、このレジストパターンをマスクに基板11を選択エッチングして溝部13を形成し、次いで溝部13を有する基板11の表面上にシリコンからなる遮光膜14を形成し、次いで遮光膜14及び基板11をCMP法で所定量エッチングすることにより、溝部13に遮光膜14を埋め込むと共に基板表面を平坦化し、しかるのち基板11の遮光膜形成面に透明膜を形成する。
請求項（抜粋）：
表面部に溝が形成された透明基板と、前記溝内に埋め込み形成された遮光膜とを具備してなり、前記基板表面が平坦化されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/14
FI (4件)：
H01L 21/30 502 P ,  G03F 1/08 L ,  G03F 1/08 A ,  G03F 1/14 A
引用特許：
審査官引用 (14件)
  • 特開昭63-293819
  • 特開昭64-007522
  • 特開昭64-088549
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