特許

J-GLOBAL ID：200903027642291557

ポリシロキサン構造を有するポリアミド共重合体の製造方法

発明者： 吉田 功二 ,  野村 好弘 ,  堂々 隆史 ,  南沢 寛 ,  濱田 登美子
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-317603
公開番号（公開出願番号）：特開平6-157746
出願日： 1992年11月27日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：

【要約】【構成】 化1〔一般式(I)〕【化1】(式中、Y1は二価の炭化水素基であり、Y2は一価の炭化水素基を表し、2個のY1は同一でも異なっていてもよく、複数個のY2は互いに同一でも異なってもよく、mは6以上の整数である)で表されるジアミノシロキサンと芳香族ジアミンを非反応性有機極性溶媒に溶解し、-50°C〜-5°Cの範囲に保ちながら、非反応性有機極性溶媒に溶解した芳香族ジカルボン酸クロライドを滴下し、有機塩基の存在下に重縮合反応を行うことを特徴とするポリシロキサン構造を有するポリアミド共重合体の製造方法。【効果】上記の方法で得られる共重合体は、ワニス化するとき高濃度化が可能で、透明性、耐熱性、可撓性、機械的強度に優れている。

請求項（抜粋）：

化1〔一般式(I)〕【化1】(式中、Y1は二価の炭化水素基であり、Y2は一価の炭化水素基を表し、2個のY1は同一でも異なっていてもよく、複数個のY2は互いに同一でも異なってもよく、mは6以上の整数である)で表されるジアミノシロキサンと芳香族ジアミンを非反応性有機極性溶媒に溶解し、-50°C〜-5°Cの範囲に保ちながら、非反応性有機極性溶媒に溶解した芳香族ジカルボン酸クロライドを滴下し、有機塩基の存在下に重縮合反応を行うことを特徴とするポリシロキサン構造を有するポリアミド共重合体の製造方法。

IPC (2件)：

C08G 69/42 NSN ,  C08G 69/28 NSB