特許
J-GLOBAL ID:200903027648087218
193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-エポキシド熱硬化下塗り
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-604080
公開番号(公開出願番号):特表2002-539282
出願日: 2000年03月10日
公開日(公表日): 2002年11月19日
要約:
【要約】本発明はヒドロキシル含有ポリマー及び架橋剤として多官能エポキシドからなる熱硬化性ポリマー組成物に関する。この熱硬化性ポリマー組成物は溶媒に溶解しそして深紫外光リソグラフィーにおける下塗り層として使用することができる。更に、本発明は基板、基板上の熱硬化下塗り組成物、及び熱硬化下塗り組成物の上の放射線感受性レジスト上塗りからなる光リソグラフィー被覆基板にも関する。その上、本発明はレリーフ構造物の製造のため光リソグラフィー被覆基板を使用する方法にも関する。
請求項(抜粋):
ヒドロキシル含有ポリマー、多官能エポキシド架橋剤及び場合により熱酸発生剤からなる熱硬化性ポリマー組成物。ここで前記ヒドロキシル含有ポリマーはシクロヘキサノール、ヒドロキシスチレン、ヒドロキシアルキルアクリレート又はメタクリレート、ヒドロキシシクロアルキルアクリレート又はメタクリレート、ヒドロキシアリールアクリルアミド又はメタクリルアミド、及びアリルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも1つのモノマー単位からなり、但しフェノール性モノマーが前記ヒドロキシル含有ポリマーの少なくとも約10モル%の量で存在しない場合、前記熱酸発生剤は存在することを条件とする。
IPC (7件):
C08G 59/62
, C08G 59/68
, G03F 7/039 601
, G03F 7/075 511
, G03F 7/11 503
, G03F 7/40 521
, H01L 21/027
FI (8件):
C08G 59/62
, C08G 59/68
, G03F 7/039 601
, G03F 7/075 511
, G03F 7/11 503
, G03F 7/40 521
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 573
Fターム (33件):
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025DA29
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA18
, 2H025FA41
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096BA20
, 2H096CA05
, 2H096CA06
, 2H096EA03
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA23
, 2H096KA03
, 2H096KA19
, 4J036AE02
, 4J036AE07
, 4J036AJ00
, 4J036AJ01
, 4J036DB02
, 4J036DD05
, 4J036FB03
, 4J036FB16
, 4J036GA22
, 4J036JA09
, 5F046NA01
, 5F046NA15
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