特許

J-GLOBAL ID：200903027649400890

導電性反射防止膜及びそれが被覆形成された陰極線管用ガラスパネル

発明者： 金井 敏正 ,  今村 努
出願人/特許権者： 日本電気硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-253993
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074911
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】 反射光の低減、コントラストの向上、帯電防止及び電磁波遮蔽能力を有し、熱処理で反射率や抵抗値が変らず、映像が二重に見えることのない導電性反射防止膜と、それが被覆された陰極線管用ガラスパネルの提供。【解決手段】 本発明は、基体側から第1の層はTiNが主成分の屈折率1.1〜2.3の着色導電層で膜厚0.5〜30nm、第2の層は屈折率1.5〜2.3の透明層で膜厚10〜80nm、第3の層はNiの酸化物が主成分の着色層で膜厚0.5〜40nm、第4の層は屈折率が第2の層より小さい透明層で膜厚3〜40nm、第5の層は屈折率1.5〜3.0の透明層で膜厚0.5〜40nm、第6の層は屈折率1.4〜1.6の透明層で膜厚50〜140nmの導電性反射防止膜と、それがフェース部に被覆形成された陰極線管用ガラスパネル。

請求項（抜粋）：

基体上に形成される6つの層を含み、基体側から順に第1、第2、第3、第4、第5、第6の層と呼ぶとき、第1の層は、TiNを主成分とする屈折率が1.1〜2.3の着色導電層であって0.5〜30nmの幾何学的厚みを有し、第2の層は、屈折率が1.5〜2.3の透明層であって10〜80nmの幾何学的厚みを有し、第3の層は、Niの酸化物を主成分とする着色層であって0.5〜40nmの幾何学的厚みを有し、第4の層は、屈折率が第2の層より小さい透明層であって3〜40nmの幾何学的厚みを有し、第5の層は、屈折率が1.5〜3.0の透明層であって0.5〜40nmの幾何学的厚みを有し、第6の層は、屈折率が1.4〜1.6の透明層であって50〜140nmの幾何学的厚みを有することを特徴とする導電性反射防止膜。

IPC (5件)：

G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  H01J 29/86 ,  H01J 29/88 ,  C03C 17/34

FI (5件)：

G02B 1/10 A ,  H01J 29/86 Z ,  H01J 29/88 ,  C03C 17/34 Z ,  G02B 1/10 Z

Fターム (25件)：

2K009AA09 ,  2K009BB02 ,  2K009CC01 ,  2K009CC02 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  2K009EE01 ,  2K009EE03 ,  4G059AA06 ,  4G059AC04 ,  4G059AC12 ,  4G059EA04 ,  4G059EB02 ,  4G059EB03 ,  4G059EB04 ,  4G059EB05 ,  4G059EB07 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  5C032AA02 ,  5C032DD02 ,  5C032DE01 ,  5C032DG01 ,  5C032DG02