特許
J-GLOBAL ID:200903027659540488

有機EL素子の製造方法、有機EL素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-101312
公開番号(公開出願番号):特開2002-237383
出願日: 2001年03月30日
公開日(公表日): 2002年08月23日
要約:
【要約】【課題】有機EL素子をなす発光層の配置をインクジェット法等で行う際に、液体が所定の領域内に確実に(隣の領域に配置されることなく)、且つ領域内で均一な厚さに配置されるようにする。【解決手段】ITO電極2上に、開口部3aを有するSiO2薄膜パターン3を形成する。次に、SiO2薄膜パターン3の上に、開口部4bを有する有機極薄膜パターン41を形成する。有機極薄膜パターン41の表面は撥液性になっている。この開口部4b内に、正孔輸送層61を形成した後に、その上にインクジェット法で発光層形成材料を含む液体7を吐出する。この液体7は、有機極薄膜パターン41の表面に止まらずに、開口部4b内に入る。
請求項(抜粋):
陰極と陽極の間に、少なくとも発光層を含む、1層または2層以上の構成層を有する有機EL素子の製造方法において、少なくとも1層の構成層については、構成層の形成材料を含む液体を、構成層の形成領域に対応させた開口部を有するパターンを用いて、構成層の形成領域に選択的に配置する工程を有し、この液体配置工程で、前記パターンとして、膜形成面の構成原子と結合可能な官能基および前記液体に対して撥液性の官能基を有する化合物を用いて、表面が前記液体に対して撥液性である有機極薄膜パターンを形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (4件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (5件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 D ,  H05B 33/22 Z
Fターム (9件):
3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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