特許

J-GLOBAL ID：200903027664505690

真空装置

発明者： 島村 あずさ ,  橘内 浩之 ,  小池 敏文
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-269254
公開番号（公開出願番号）：特開平5-106041
出願日： 1991年10月17日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：

【要約】【目的】被処理基板の搬送,ハンドリング時は十分な空間を確保してこれらを妨げず、真空排気、及び大気開放時にはカバーを用いて、この時に発生する巻き上げ塵埃の被処理基板への付着を低減する真空中でウエハ等を処理する真空装置を提供する。【構成】真空装置のロードロック室4内に単純な構造を持つカバー10を設け、室外の駆動装置12により、真空排気時、及び、大気開放時のみ被処理基板1を保護する。【効果】被処理基板の搬送,ハンドリング時には十分な空間が確保され、これらが妨げられることなく、真空排気及び、大気開放時には、この時発生する巻き上げ塵埃のウエハ等の被処理基板への付着を低減することができる。

請求項（抜粋）：

真空排気、及び大気開放時に被処理基板上にカバーがかかる構造をもつことを特徴とする真空装置。

IPC (5件)：

C23C 14/56 ,  C30B 25/08 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285