特許
J-GLOBAL ID：200903027675118710
シリコンウェーハ洗浄液の浄化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
衞藤 彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-046092
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203855
出願日： 1995年01月27日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：
【要約】【目的】 シリコンウェーハの洗浄液中に溶存する銅を吸着し、洗浄液を浄化する。【構成】 密閉したケース1内のシリコンフィルター2を有機溶液3に曝露し、シリコンフィルター2の表面に有機溶液を付与する。このシリコンフィルター2をシリコンウェーハ洗浄液に接触させると、有機溶液付与処理をしないシリコンフィルターに比べて、洗浄液中の重金属、特に銅の吸着が著しく加速される。その結果、洗浄液中の溶存銅が減少するので、洗浄によりシリコンウェーハに銅が付着してウェーハの電気特性を劣化させるおそれがない。有機溶液には、ステアリン酸あるいはブロモシクロヘキサンとシュウ酸の混合液を使用する。
請求項（抜粋）：
シリコンウェーハ洗浄液を、酸化膜のないシリコンフィルターと接触させて金属不純物を除去するにあたり、あらかじめシリコンフィルターに有機溶液を付与することを特徴とするシリコンウェーハ洗浄液の浄化方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/14
