特許
J-GLOBAL ID:200903027688248591

メタノールの低温分解による合成ガスの製造方法およびそれに用いる触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 工業技術院物質工学工業技術研究所長 (外1名) ,  池浦 敏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-363676
公開番号(公開出願番号):特開平11-171502
出願日: 1997年12月16日
公開日(公表日): 1999年06月29日
要約:
【要約】【課題】 メタノールの低温分解反応用触媒において、高効率で合成ガスを生成する触媒を提供する。【解決手段】 シリカゲル上に酸化ジルコニウムを高分散担持した後、更にパラジウムを3wt%以上の濃度で担持することを特徴とする合成ガスの製造用触媒。
請求項(抜粋):
メタノールの分解反応による合成ガスの製造方法において、酸化ジルコニウムを高分散担持したシリカゲル上にパラジウムを3重量%以上の濃度で担持した触媒を用いることを特徴とする合成ガスの製造方法。
IPC (2件):
C01B 3/40 ,  B01J 23/44
FI (2件):
C01B 3/40 ,  B01J 23/44 M
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭63-264141

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