イソシアネートの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , 杉本博司 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-114351
公開番号（公開出願番号）：特開2007-291106
出願日： 2007年04月24日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

【課題】イソシアネートを製造し、かつアミンホスゲン化からの塩化水素、ホスゲン及び場合により溶剤、低沸点化合物並びに不活性物質を含有する流を精製するにあたり、塩化水素流中のホスゲンの残留濃度多くとも0.5質量%を達成できるように行う方法を提供する。【解決手段】イソシアネートの製造方法において、a)アミンとホスゲンとを溶剤の存在下又は不在下に反応させて、相応のイソシアネート及び、塩化水素、ホスゲン及び場合により溶剤、低沸点化合物並びに不活性物質を含有する流を得て、b)該流を、少なくとも2段階シーケンスの吸収工程であって少なくとも1つの等温吸収工程と少なくとも1つの断熱吸収工程とを有する工程において分離して、(i)塩化水素流の全質量に対して0.5質量%以下のホスゲンを含有する塩化水素流と、(ii)液状ホスゲン流とを得て、c)液状ホスゲン流(ii)を工程a)に再循環させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

イソシアネートの製造方法において: a)少なくとも1つのアミンとホスゲンとを、溶剤の存在下又は不在下に反応させて、相応のイソシアネート及び、塩化水素、ホスゲン及び場合により溶剤、低沸点化合物並びに不活性物質を含有する流を得る工程、 b)その塩化水素、ホスゲン及び場合により溶剤、低沸点化合物並びに不活性物質を含有する流を、少なくとも2段階シーケンスの吸収工程であって、(1)少なくとも1つの等温吸収工程と、(2)少なくとも1つの断熱吸収工程とを有する工程において分離して、(i)塩化水素流の全質量に対して0.5質量%以下のホスゲンを含有する塩化水素流と、(ii)液状ホスゲン流とを得る工程、及び c)液状ホスゲン流(ii)を工程a)に再循環させる工程を含む方法。

IPC (4件)：

C07C 263/10 , C07C 263/20 , C07C 265/02 , C07C 265/12

FI (4件)：

C07C263/10 , C07C263/20 , C07C265/02 , C07C265/12

Fターム (6件)：

4H006AA02 , 4H006AC55 , 4H006AD16 , 4H006BD33 , 4H006BD52 , 4H006BE52

引用特許：

出願人引用 (21件)

US4764308号
GB-A-827376号
US-A-3,3812,025号

全件表示

前のページに戻る