特許
J-GLOBAL ID：200903027694313788
高周波誘導加熱方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上野 登
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-027954
公開番号（公開出願番号）：特開2000-225474
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 被加熱物を高周波誘導電流により均一に熱処理或いは接合することのできる高周波誘導加熱方法及びそれに用いられる高周波誘導加熱装置を提供すること。【解決手段】 被加熱物の周りに配設した高周波誘導加熱コイルの通電により生じる高周波誘導電流によりその被加熱物を高周波誘導加熱するに際して、被加熱物と高周波誘導加熱コイルとの距離を2箇所又は3箇所以上の位置においてレーザ変位計により計測し、その各計測箇所における計測値の差異が小さくなる方向に高周波誘導加熱コイルを被加熱物に対して相対的に移動させるようにする。更に、被加熱物の表面温度を測定し、その温度計測値をも考慮して相対移動させるようにしても良い。
請求項（抜粋）：
被加熱物の周りに配設した高周波誘導加熱コイルの通電により生じる高周波誘導電流により該被加熱物を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱物と高周波誘導加熱コイルとの距離を該高周波誘導加熱コイルのコイル面内における2箇所又は3箇所以上の位置において計測し、その各計測箇所における計測値の差異が小さくなる方向に前記高周波誘導加熱コイルを被加熱物に対して相対的に移動させるようにしたことを特徴とする高周波誘導加熱方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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