特許

J-GLOBAL ID：200903027705812170

変位情報検出装置、駆動制御装置、及び変位情報検出用スケール

発明者： 石塚 公
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-131816
公開番号（公開出願番号）：特開平8-327401
出願日： 1995年05月30日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：

【要約】【目的】 射出方位に応じた光量むら等の光量差を加味した高精度な変位情報検出を実現する。【構成】 スケールD上の第1パターン形成部に光束照射を行った際の第1パターン形成部からの出射光を検出して物体の相対変位情報に相当する信号を出力する受光素子Su、Svと、スケールD上の第2パターン形成部に光束照射を行った際の第2パターン形成部からの出射光を検出して物体の相対変位情報に相当する信号を出力する受光素子Sw、Szと、第1、第2パターン形成部それぞれにないしそれぞれの近傍部に設けられた光量モニタ用トラックTref1、Tref2からの出射光をそれぞれ検出して、第1、第2パターン形成部それぞれ付近の光量モニタを行うための受光素子Sref1、Sref2とを有する。

請求項（抜粋）：

相対変位を検出すべき物体に設けられたスケール上の第1パターン形成部に光束照射を行って該第1パターン形成部からの出射光を検出して前記物体の相対変位情報に相当する信号を出力する第1検出手段と、相対変位を検出すべき物体に設けられたスケール上の前記第1パターン形成部とは異なる位置に設けられた第2パターン形成部に光束照射を行って該第2パターン形成部からの出射光を検出して前記物体の相対変位情報に相当する信号を出力する第2検出手段と、前記第1、第2パターン形成部それぞれにないしそれぞれの近傍部に設けられた光量モニタ用エリアからの出射光をそれぞれ検出して、前記第1、第2パターン形成部それぞれ付近の光量モニタを行うための光量モニタ手段とを有することを特徴とする変位情報検出装置。

IPC (5件)：

G01D 5/38 ,  G01B 11/00 ,  G01D 5/36 ,  G11B 19/06 501 ,  G11B 19/20

FI (5件)：

G01D 5/38 A ,  G01B 11/00 G ,  G01D 5/36 B ,  G11B 19/06 501 E ,  G11B 19/20 G