特許
J-GLOBAL ID:200903027713961010

磁気記録媒体の製造方法および蒸着用るつぼ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石井 陽一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-277079
公開番号(公開出願番号):特開平5-090060
出願日: 1991年09月27日
公開日(公表日): 1993年04月09日
要約:
【要約】【目的】 斜め蒸着法による強磁性金属薄膜を有する磁気記録媒体を量産する際に、電子ビームのエネルギーの利用効率を向上させることにより、強磁性金属薄膜を効率よく安定して形成する。【構成】 るつぼ5中の強磁性金属の溶湯51表面に電子ビームを照射して非磁性基体上に強磁性金属薄膜を形成するに際し、溶湯51の表面形状が、非磁性基体の幅方向を長手方向とし非磁性基体の搬送方向を幅方向とする長手状であり、長手方向中央で測った溶湯51表面の幅をCW とし、長手方向中央で溶湯51を幅方向に切断したときの溶湯51の断面積をCS としたとき、CS /CW 2を0.1〜0.35とする。
請求項(抜粋):
真空槽中において、長尺フィルム状の非磁性基体を回転する冷却ドラムの表面に添わせて搬送しながら、定置されたるつぼ中の強磁性金属の溶湯表面に電子ビームを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非磁性基体上に強磁性金属薄膜を形成する工程を有する磁気記録媒体の製造方法であって、前記るつぼ中の前記溶湯の表面形状が、前記非磁性基体の幅方向を長手方向とし前記非磁性基体の搬送方向を幅方向とする長手状であり、長手方向中央で測った前記溶湯表面の幅をCW とし、長手方向中央で前記溶湯を幅方向に切断したときの前記溶湯の断面積をCS としたとき、CS /CW 2 が0.1〜0.35であり、前記電子ビームを、前記溶湯表面の長手方向に走査しながら照射することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件):
H01F 41/20 ,  C23C 14/30
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭59-173264
  • 特開平2-007229
  • 特開昭60-017071

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