特許
J-GLOBAL ID：200903027743863039
マイクロ波放電反応装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139133
公開番号（公開出願番号）：特開平6-325898
出願日： 1993年05月17日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】 マイクロ波放電反応装置において、スリットアンテナ部へ電力を供給するマイクロ波供給系を改良し、プラズマの均一性を良好とし、マイクロ波の利用効率を高めた放電用電極を実現し、実用性の高める。【構成】 内部を減圧状態に保持する機構10とガスを導入する機構を備える真空容器1を備え、この真空容器内に、当該真空容器の内部にマイクロ波を導入してガスをプラズマ化するプラズマ発生機構2と、このプラズマ発生機構に対し間隔をあけて対向させた基板保持機構3を配置するように構成され、さらに、上記のプラズマ発生機構2は、真空容器内にマイクロ波を放射するスリットが形成された平板状電極4と、この平板状電極の近傍に配置された磁場発生手段6と、平板状電極の前記スリットにマイクロ波を供給する円形導波管7とから構成される。円形導波管内を伝播するマイクロ波の伝播モードは、軸対称のTM01モードまたはTE01モードが使用される。
請求項（抜粋）：
内部を減圧状態に保持する機構とガスを導入する機構を備える真空容器と、前記真空容器内にマイクロ波を導入して前記ガスをプラズマ化するプラズマ発生機構と、このプラズマ発生機構に対し所定位置関係にて設置される基板保持機構を備えるマイクロ波放電反応装置において、前記プラズマ発生機構は、前記真空容器内にマイクロ波を放射するスリットが形成された平板状電極と、この平板状電極の近傍に配置された磁場発生手段と、前記平板状電極の前記スリットにマイクロ波を供給する円形導波管とから構成されることを特徴とするマイクロ波放電反応装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, B01J 19/08
, C23C 16/50
, H01L 21/31
