特許

J-GLOBAL ID：200903027745652990

フェニルアセテートおよびその使用方法

発明者： アルフレッド スタインマン
出願人/特許権者： チバ-ガイギー アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095657
公開番号（公開出願番号）：特開平6-065227
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年03月08日
要約：

【要約】【構成】 次式I〔式中、Aは次式:で表される基を表し、R1 およびR2 は互いに独立してH、C数1〜4のアルキル基、C数1〜4のアルコキシ 基、ハロゲン原子または式:-CH2COOAもしくは式:(式中、Xは-O- 、-CH2- 、-C(CH3)2-もしくは-SO2- を表す。)で表される基を表し、ならびにR3 およびR4 は互いに独立して水素原子、C数1〜4のアルキル基またはフェニル基を表す。〕で表される化合物ならびに該化合物を溶解抑制剤として含む放射線感受性組成物。【効果】 上記組成物は優れた解像度を有し、特に集積回路を製造するのに適当なポジ型レジストして使用できる。

請求項（抜粋）：

次式I〔式中、Aは次式:で表される基を表し、R1 およびR2 は互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子または式:-CH2 -COOAもしくは式:(式中、Xは-O-、-CH2 -、-C(CH3 )2 -もしくは-SO2 -を表す。)で表される基を表し、ならびにR3 およびR4 は互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル基を表す。〕で表される化合物。

IPC (5件)：

C07D309/12 ,  C07D307/20 ,  G03F 7/004 531 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/31