均一磁場発生装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-217180
公開番号（公開出願番号）：特開2000-046999
出願日： 1998年07月31日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】コイルの構造が簡単で、クライオスタットや支持構造等も簡略化できる均一磁場発生装置を提供する。【解決手段】略相似の2次元形状を有するメインコイル1、トリムコイル2及びシールドコイル3を平面状に配置してコイル群Aとする。同様の構成のコイル群Bをコイル群平面に垂直な方向に間隔をあけて平行に配置する。トリムコイル2とシールドコイル3には、メインコイル1とは逆向きの電流を流す。トリムコイル2によって発生される磁場はメインコイル1の磁場を補正して中心部の均一磁場領域の磁場均一度を高めるように作用し、シールドコイル3によって発生される磁場は外部の漏れ磁場を所定の値以下に低減するように作用する。均一磁場は、2組のコイル群A,Bで挟まれた領域の中央部分に発生される。

請求項（抜粋）：

複数のコイルを組み合わせて空間的に均一な磁場を発生する均一磁場発生装置において、平面的に配置された複数のコイルからなるコイル群を用い、前記コイル群で囲まれた領域に空間的に均一な磁場を発生すると共に、前記コイル群の外部の漏れ磁場を所定の値以下に低減することを特徴とする均一磁場発生装置。

IPC (6件)：

G21K 1/093 , A61B 5/055 , G01R 33/387 , G01R 33/3875 , H05H 7/04 , H05H 13/00

FI (6件)：

G21K 1/093 D , H05H 7/04 , H05H 13/00 , A61B 5/05 332 , G01N 24/06 520 Y , G01N 24/06 520 J

Fターム (14件)：

2G085AA11 , 2G085BC04 , 2G085BC09 , 4C096AB42 , 4C096AD08 , 4C096CA02 , 4C096CA15 , 4C096CA22 , 4C096CA27 , 4C096CA35 , 4C096CA36 , 4C096CA39 , 4C096CA40 , 4C096CA52

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平2-174099
特開平2-174099
超電導磁石装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-336023 出願人：株式会社日立メディコ, 株式会社日立製作所

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