アーク式イオンプレーティング装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-346478
公開番号（公開出願番号）：特開平9-157837
出願日： 1995年12月11日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：

【要約】【課題】基材に対する膜の密着性を低下させることなく、基材の尖った部分でのエッチング現象を抑制することができ、かつアーク式蒸発源からのドロップレットが基材に飛来して堆積するのを防止することができる装置を提供する。【解決手段】アーク式蒸発源14の陰極16の前面部とホルダ10上の基材8との間を遮るように、メッシュ状の中間電極24を配置すると共に、この中間電極24の電位を陰極16の電位と基材8の電位との中間電位に保つ中間電極電源26を設けた。更に、この中間電極24を真空容器2内において例えば上下方向に振動させる駆動装置28を設けた。

請求項（抜粋）：

真空容器と、この真空容器内に設けられていて被処理物である基材を保持するホルダと、前記真空容器に、その内部のホルダに保持される基材に向けて取り付けられていて、アーク放電によって陰極を溶解させると共に当該陰極の前面近傍にイオン化した陰極物質を含むアーク放電プラズマを生成するアーク式蒸発源と、前記ホルダに保持された基材に負のバイアス電圧を印加するバイアス電源とを備えるアーク式イオンプレーティング装置において、前記アーク式蒸発源の陰極の前面部とホルダに保持された基材との間を遮るように配置されたメッシュ状の中間電極と、この中間電極の電位を、前記アーク式蒸発源の陰極の電位と基材の電位との中間電位に保つ中間電極電源と、この中間電極を前記真空容器内において振動または回転させる駆動装置とを備えることを特徴とするアーク式イオンプレーティング装置。

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