特許

J-GLOBAL ID：200903027772554894

洗浄液および半導体装置の製造方法

発明者： 速水 直哉 ,  平林 英明 ,  松井 嘉孝
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-062030
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270566
出願日： 2001年03月06日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：

【要約】【課題】 デバイスに与えるダメージを抑制しつつ、パーティクル、有機不純物および金属不純物を除去することが可能な洗浄液を提供する。【解決手段】 少なくとも銅またはアルミニウムを含む金属と錯体を形成する化合物0.001重量%以上と、界面活性剤0.001重量%以上とを含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも銅またはアルミニウムを含む金属と錯体を形成する化合物0.001重量%以上と、界面活性剤0.001重量%以上とを含むことを特徴とする洗浄液。

IPC (7件)：

H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 621 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 644 ,  C11D 3/33 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/3205

FI (7件)：

H01L 21/304 647 B ,  H01L 21/304 621 D ,  H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/304 644 C ,  C11D 3/33 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/88 K

Fターム (38件)：

4H003AB18 ,  4H003AB46 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DC04 ,  4H003EA23 ,  4H003EB07 ,  4H003EB13 ,  4H003EB19 ,  4H003EB20 ,  4H003ED02 ,  4H003FA07 ,  5F033GG04 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH12 ,  5F033HH17 ,  5F033HH18 ,  5F033HH19 ,  5F033HH21 ,  5F033HH30 ,  5F033HH32 ,  5F033HH33 ,  5F033HH34 ,  5F033NN07 ,  5F033PP15 ,  5F033PP19 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ48 ,  5F033QQ49 ,  5F033QQ93 ,  5F033QQ96 ,  5F033RR03 ,  5F033RR04 ,  5F033RR05 ,  5F033RR06 ,  5F033RR14 ,  5F033RR15