特許
J-GLOBAL ID：200903027773294365
光磁気記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
芝野 正雅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-093142
公開番号（公開出願番号）：特開2000-285535
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 記録密度が高密度になっても記録層の各磁区を正確に再生層に転写し、その転写した磁区を検出できる光磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 光磁気記録媒体10は、透光性基板1と、下地層2と、再生層3と、第1のマスク層4と、非磁性層5と、第2のマスク層6と、記録層7と、保護層8とを備える。再生層3は所定の温度以上で面内磁化膜から垂直磁化膜になる磁性層であり、第1のマスク層4は、室温で面内磁化膜であり、所定の温度以上で磁化が消滅する磁性層であり、第2のマスク層6は、所定の温度以上で面内磁化膜から垂直磁化膜となる磁性層である。従って、第1のマスク層4の磁化が消滅する領域の長さを記録層7の最短ドメイン長とほぼ同等の長さにすることにより記録層7の各磁区は独立に第1のマスク層4の磁化が消滅した領域のみを介して再生層3へ転写できる。
請求項（抜粋）：
再生層と、前記再生層に接して形成され、第1の温度以上で所定の領域は磁化が消滅し、前記所定の領域以外の領域は面内磁化を保持する第1のマスク層と、前記第1のマスク層に接して形成された非磁性層と、前記非磁性層に接して形成された第2の温度以上で面内磁化膜から垂直磁化膜になる第2のマスク層と、前記第2のマスク層に接して形成された記録層とを含む光磁気記録媒体。
IPC (2件)：
G11B 11/10 506
, G11B 11/10
G11B 11/10 506 A
, G11B 11/10 506 U
