特許

J-GLOBAL ID：200903027775801817

芳香族炭酸ジエステルの製造方法

発明者： 伊藤 光則
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-226264
公開番号（公開出願番号）：特開平8-092167
出願日： 1994年09月21日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】 毒性の高いホスゲンを用いることなく、安価で安全性の高い原料を用い、芳香族炭酸ジエステルを選択的に製造する方法を提供すること。【構成】 一般式(I)【化1】(R1 〜R4 は明細書に記載したとおりである。)で表される尿素類とフェノール類とを、モル比1:0.1〜1:20の割合で反応させるか、又は一般式(II)【化2】(R5 ,R6 ,X2 及びnは明細書に記載したとおりである。)で表されるアリールカーバメート類とフェノール類とを、モル比1:0.1〜1:20の割合出反応させることにより、芳香族炭酸ジエステルを製造する方法である。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、R1 〜R4 は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜18のヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基を示し、それらはたがいに同一であっても異なっていてもよい。)で表される尿素類と、一般式(II)【化2】(式中、X1 は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜18のヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基、mは1〜5の整数を示し、X1 が複数ある場合は複数のX1 は同一でも異なっていてもよい。)で表されるフェノール類とを、モル比1:0.1ないし1:20の割合で反応させることを特徴とする、一般式(III)【化3】(式中、X1 は前記と同じである。)で表される芳香族炭酸ジエステル製造方法。

IPC (4件)：

C07C 69/96 ,  B01J 31/02 ,  C07C 68/00 ,  C07B 61/00 300