特許
J-GLOBAL ID:200903027779785077

陰イオン交換体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-170537
公開番号(公開出願番号):特開2001-002738
出願日: 1999年06月17日
公開日(公表日): 2001年01月09日
要約:
【要約】【課題】 物理的性質にすぐれ、用途に適した形状への成形加工が容易で優れた特性を有すると共に耐熱性に優れ、溶出の少ない陰イオン交換体ならびにその製造方法を提供する。【解決手段】 高分子基材上に 少なくとも下記一般式(1)又は(2)で表される構造単位をグラフト重合してなる陰イオン交換体。【化1】(上記式中、Aは炭素数3〜8のアルキレン基又は炭素数4〜8のアルコキシメチレン基を示し、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数6以下のアルキル基又はアルカノール基を示し、Xはアンモニウム塩の対イオンを示す。環a、bは更に置換されていてもよい。)
請求項(抜粋):
高分子基材上に、少なくとも下記一般式(1)又は(2)で表される構造単位をグラフト重合してなる陰イオン交換体。【化1】(上記式中、Aは炭素数3〜8のアルキレン基又は炭素数4〜8のアルコキシメチレン基を示し、R1 、R2 、R3 はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又はアルカノール基を示し、Xはアンモニウム塩の対イオンを示す。環a、bは更に置換されていても良い。)
IPC (3件):
C08F257/02 ,  B01J 41/14 ,  C08J 5/20
FI (3件):
C08F257/02 ,  B01J 41/14 F ,  C08J 5/20
Fターム (38件):
4F071AA09C ,  4F071AA14C ,  4F071AA22 ,  4F071AA33C ,  4F071AA43C ,  4F071AA53C ,  4F071AA54C ,  4F071AA77 ,  4F071FA01 ,  4F071FA10 ,  4F071FB02 ,  4F071FC06 ,  4F071FD02 ,  4J026AA02 ,  4J026AA11 ,  4J026AA12 ,  4J026AA13 ,  4J026AA14 ,  4J026AA17 ,  4J026AA26 ,  4J026AA55 ,  4J026AB02 ,  4J026AB07 ,  4J026AB28 ,  4J026AC01 ,  4J026AC02 ,  4J026AC11 ,  4J026AC12 ,  4J026BA08 ,  4J026BB01 ,  4J026DB03 ,  4J026DB09 ,  4J026DB12 ,  4J026DB15 ,  4J026DB16 ,  4J026FA01 ,  4J026GA01 ,  4J026GA08

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